精}相信很多人都认识，它不仅可以用在、潜水、高空等，它在金属切割及焊接等方面也有着广泛的用途。下面我就给大家讲解一下。
目前在工业上用做焊接保护气，弧焊可用来焊接，通常难以焊接的金属，在冶炼方面，是生产稀有金属的保护气，还可用来充填电子管及各种灯泡等。
高纯：该气体主要用于半导体工业、稀有金属、有色金属的冶炼、焊接中的保护气、如单晶硅冶炼焊接，光学照明，激光方面，色谱用载气，及标准混合气的制备，同时也可做理想的隔热材料。
氧气是一种化学性质比较活泼的无色无味的气体，它可以与金属、非金属、化合物等多种特物质发生氧化反应，反应剧烈程度因条件不同而异，可表现为缓慢氧化、烧、爆等，反应中放出大量的热。
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大家知道制作超纯氧气的方法有什么呢？相信很多人都不知道吧，那么接下来就让小编为大家做一个详细的介绍吧。我们一起来看一下吧。
首先按照摩尔比1:1比例取出浓度大于99.9%，粒度小于500微米的硅粉和碳粉，然后进行两次合成。在初次合成步骤中，将所取硅粉和碳粉混合均匀放入坩埚中，再将坩埚置于中频感应加热炉，并对加热炉的生长室抽真空，除去其中的氧气和氮气，同时将温度升高至1000摄氏度。然后向生长室中充入高纯度的氦气和氢气的混合气体，加热至1500摄氏度，保持反应时间15分钟，而后降至室温，后将反应后的产物中大于1厘米的团聚物碾成小于1毫米的粉末。
在二次合成步骤中，将上述产物粉末混合均匀重新放入坩埚，并将坩埚再次置于中频感应加热炉，抽真空环境，升高温度到1000摄氏度，通入氦气和氢气的混合气体。然后升高温度到1600摄氏度到2000摄氏度，保持反应合成时间2小时到10小时，再降至室温。通过这两步即可以得到粒度小于20微米的适用于半导体碳化硅硅单晶生长的高纯碳化硅粉，采用粉末衍射法(XRD)对初次合成和二次合成产物进行物相分析，得到的XRD如图1所示，通过分析可以发现初次合成粉末有硅和碳的单质剩余，而二次合成则可以使得反应更加完全，得到纯度更高的碳化硅。
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生产超纯氧气的主要方法有哪些？
生产超纯氧气主要有以下方法。
一是深冷空分法。利用空气中各成分沸点不同，在低温下将空气液化，然后通过精馏等过程把氧气从液态空气中分离出来。这种方法可大规模生产高纯度氧气，纯度能达到99.99%以上。
二是变压吸附法。基于吸附剂在不同压力下对气体吸附能力的差异，在一定压力下吸附氮气等杂质，使氧气富集。这种方法操作灵活简单，但纯度相对较低，通常在90% - 95%左右，可通过多级吸附等改进措施来提高氧气纯度。
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