半导体产业是现代电子工业的主要部分，而超纯氧气则是半导体制造过程中不可或缺的关键原料之一。
在半导体芯片的生产流程中，超纯氧气主要用于氧化、光刻、蚀刻等多个关键步骤。
在热氧化工艺中，高纯氧气与硅片反应，生成高质量的二氧化硅层，作为绝缘层或保护层，对芯片的性能和稳定性至关重要。在光刻过程中，超纯氧气参与化学反应，帮助形成电路图案。而在蚀刻环节，高纯氧气作为蚀刻气体，与刻蚀剂共同作用于芯片表面，准确去除多余材料，确保电路结构的准确性。
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工业生产中，超纯氧气是重要的重要原料。
在钢铁冶炼过程中，向熔炉中吹入超纯氧气，能加速铁矿石的氧化反应，有效去除杂质，提高冶炼效率，提升钢铁的质量和性能。在化工合成领域，许多化学反应需要在有氧环境下进行，超纯氧气作为反应气体，参与到各类化工产品的生产中，如、乙烯等重要化工原料的合成。
此外，在玻璃制造行业，超纯氧气能使燃料充分燃烧，提高炉温，从而制造出质量高、透明度高的玻璃制品，推动工业生产迈向更高水平。
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超纯氧气在航空航天领域的应用
航空航天领域对超纯氧气需求特殊且关键。在载人航天任务中，飞船与空间站内配备高纯氧气系统，保障宇航员呼吸，维持生命活动。航天服内也充有高纯氧气，确保宇航员在舱外活动时的安全。在火箭发动机推进系统里，高纯氧气作为氧化剂，与燃料剧烈反应产生强大推力，推动火箭升空。飞机在高空飞行时，座舱内需要稳定的氧气供应，超纯氧气保障飞行员与乘客的正常呼吸，应对高空低氧环境，为航空航天事业的发展保驾护航。
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