半导体产业是现代电子工业的主要部分，而超纯氧气则是半导体制造过程中不可或缺的关键原料之一。
在半导体芯片的生产流程中，超纯氧气主要用于氧化、光刻、蚀刻等多个关键步骤。
在热氧化工艺中，高纯氧气与硅片反应，生成高质量的二氧化硅层，作为绝缘层或保护层，对芯片的性能和稳定性至关重要。在光刻过程中，超纯氧气参与化学反应，帮助形成电路图案。而在蚀刻环节，高纯氧气作为蚀刻气体，与刻蚀剂共同作用于芯片表面，准确去除多余材料，确保电路结构的准确性。
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在救治的战场上，超纯氧气是不可或缺的部分。对于呼吸困难的患者，无论是因心肺疾病、呼吸系统感燃，还是高原反应引发的缺氧，及时吸入超纯氧气能迅速缓解症状，为身体机能恢复争取宝贵时间。
超纯氧气的制取需经过多道精密工序，从空气分离开始，利用低温精馏技术，将氮气、氩气等杂质逐步剔除，使氧气纯度达到 99.5% 甚至更高标准。
在医院里，氧气瓶、制氧机等供氧设备源源不断输送着高纯氧气，通过面罩、鼻导管准确送达患者体内，维持生命体征平稳，堪称守护健康的 “隐形天使”。
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超纯氧气和普通氧气区别？
超纯氧气和普通氧气主要在纯度上有区别。超纯氧气的纯度通常在99.99%以上，而普通氧气纯度一般在99%左右。高纯氧气杂质含量极低，几乎不含水分、二氧化碳、氮气等杂质，这使得它在一些对氧气纯度要求很高的场合，如电子芯片制造等能够发挥关键作用，避免杂质对产品或产生不良影响。普通氧气则适用于一些对纯度要求不那么苛刻的场景，如一般的工业燃烧等。
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