超纯氧气给人们带来了很大的好处,比如在医院给缺氧的病者给予呼吸等,下面我就给大家介绍一下超纯氧气。
大部分商品氧都是由空气分离制造的。即将空气液化后经精馏提纯。也可采用低温全精馏法。少量氧采用电解氧为原料,经催化脱氢可制取纯度为99.99%以上的高纯氧。其他纯化方法有变压吸附法和膜分离法。1.冶金工业 在炼钢过程中吹以高纯度氧气,氧便和碳及磷、硫、硅等起氧化反应,这不但降低了钢的含碳量,还有利于清除磷、硫、硅等杂质。而且氧化过程中产生的热量足以维持炼钢过程所需的温度,因此,吹氧不但缩短了冶炼时间,同时提高了钢的质量。高炉炼铁时,提高鼓风中的氧浓度可以降焦比,提高产量。在有色金属冶炼中,采用富氧也可以缩短冶炼时间提高产量。2.化学工业 在生产合成氨时,氧气主要用于原料气的氧化,例如,重油的高温裂化,以及煤粉的气化等,以强化工艺过程,提高化肥产量。3.工业 液氧是现代火箭的助燃剂,在超音速飞机中也需要液氧作氧化剂,可燃物质浸渍液氧后具有强烈的性,可制作液氧。4.保健方面:供给呼吸:用于缺氧、低氧或无氧环境,例如:潜水作业、登山运动、高空飞行、宇宙航行、抢救等时。
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我们在生活中使用氮气、超纯氧气时都有哪些注意事项?想必大家都不知道吧,那接下来就由我来带大家了解一下。
1、系统或设备氮气吹扫、置换,置换前应制定作业方案,确定作业流程,明确排放地点,做到明确分工、责任落实。
2、定期进行吹扫、置换的设备、管道系统必须采取可靠的隔离。所有与吹扫无关的部位、系统要关闭或加盲板隔离,相关的操作严格按盲板示意图执行,同时附上盲板隔离检查汇总记录。
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半导体产业是现代电子工业的主要部分,而超纯氧气则是半导体制造过程中不可或缺的关键原料之一。
在半导体芯片的生产流程中,超纯氧气主要用于氧化、光刻、蚀刻等多个关键步骤。
在热氧化工艺中,高纯氧气与硅片反应,生成高质量的二氧化硅层,作为绝缘层或保护层,对芯片的性能和稳定性至关重要。在光刻过程中,超纯氧气参与化学反应,帮助形成电路图案。而在蚀刻环节,高纯氧气作为蚀刻气体,与刻蚀剂共同作用于芯片表面,准确去除多余材料,确保电路结构的准确性。
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